半导体工艺

工艺课复习记录

Posted by xnchen on December 30, 2020

第一章
- PMOS NMOS
  - 台积电创始人、胡泽明教授
- 等比例缩小/摩尔定律
- 工艺节点晶体管数量级概念（会有判断题？
- 超净间等级如何定义
- 硅的禁带宽度
- 最新的代表性的材料、工艺，需要稍微掌握
- 主要厂商和其地位
- 硅晶圆的量级
- NMOS和PMOS中每个部分的作用、名称、工艺流程
- 石墨烯
第二章
- 芯片制造流程图
- 什么手段提升分辨率
- 高k介质和low-k介质，高k介质的制备方法
- rc清洗一号液两号液
- HF PFS？
第三章
- 器件隔离方法
  - 局部氧化隔离
  - 浅沟槽隔离

填空题选择题问答题作图题